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极稳进碳图文解析图1：NiO薄膜在不同衬底上的结构及形貌。该工作以Field-freespin-orbittorqueswitchingvia out-of-planespin-polarizationinducedbyanantiferromagneticinsulator/heavymetal interface为题目发表在国际著名期刊《NatureCommunications》上，妥推碳中北京科技大学王梦溪博士和新加坡材料与工程研究所的周军博士为共同第一作者，妥推碳中北京科技大学材料科学与工程学院徐晓光教授、姜勇教授、香港理工大学应用物理系杨明博士为该论文的通讯作者，中国科学院物理研究所于国强研究员、朱涛研究员、北京工业大学韩晓东教授、李昂副教授为本文的共同作者。